国立研究開発法人日 本原子力研究開発機 構
材料のハイエントロピー化※37に よる耐照射性向上と放射線修復 — Track: Type A. PI: 青柳 登. 本研究では、材料のハイエントロピー化によって、放射線で修復 する新材料の創成を目指すとともに、照射や腐食に耐性のある 表面処理技術を堅牢にするため、組成制御技術で格子安定性 ※38を高めるとともに高放射線場での耐久性向上に向け技術革 新を創出する。